Bruker布魯克 NanoWizard Sense+

NanoWizard Sense+是一款高質(zhì)量的入門級AFM，即使在倒置的光學(xué)顯微鏡上，也能(néng)實現具(jù)有(yǒu)出色分(fēn)辨率和優異的機械和熱穩定性的AFM圖像。

模塊性

配置靈活。輕松升級。

理(lǐ)想的多(duō)用(yòng)戶平台：通過廣泛的附件和功能(néng)簡化您的系統以滿足用(yòng)戶的需求。可(kě)與先進的光學(xué)器件相結合。

性能(néng)

具(jù)有(yǒu)知名(míng)品質(zhì)的入門級系統

無與倫比的光學(xué)集成，卓越的成像和分(fēn)辨率。簡化設置，提高生産(chǎn)率：一鍵式校準和基于工(gōng)作(zuò)流程的新(xīn)穎軟件。

多(duō)面性

最高的機械和熱穩定性

多(duō)用(yòng)途系統：研究活細胞、單分(fēn)子、組織、聚合物(wù)和納米材料。

特征：

領先技(jì )術的完美開端

基于成熟的NanoWizard技(jì )術，NanoWizard Sense+可(kě)在空氣和液體(tǐ)中(zhōng)對從單分(fēn)子、活細胞和組織到聚合物(wù)和納米材料的樣品進行高性能(néng)的測量。

由于其模塊化和靈活的設計，它可(kě)以很(hěn)容易地升級為(wèi)一個完整的NanoWizard® 4 XP系統，并具(jù)有(yǒu)特定的應用(yòng)組件和附加功能(néng)。

多(duō)樣性、靈活性和模塊化

玻璃表面形貌和接觸共振頻率圖像，揭示了生産(chǎn)過程中(zhōng)的表面污染。

細胞培養液中(zhōng)的活體(tǐ)Vero細胞。 使用(yòng)PeakForce Tapping®模式和專利的DirectOverlay™ 2軟件功能(néng)拍攝的AFM圖像和疊加相差和熒光圖。

NanoWizard系列以其廣泛的可(kě)選配件、模式和功能(néng)而聞名(míng)，為(wèi)您的所有(yǒu)應用(yòng)提供最高的靈活性。

樣品兼容： 可(kě)以通過特殊選配來實現大的标準樣品體(tǐ)積（Ø140×18mm3）的測量，如電(diàn)動定位，用(yòng)于施加機械負荷于樣品的StrechingStage，用(yòng)于較高樣品的Headup台（最高14cm），以及用(yòng)于高NA直立光學(xué)的BioMAT™的穿梭台。

溫度控制：高溫和低溫選項（例如，獨特的CryoStage：-120°C至220°C），有(yǒu)或沒有(yǒu)灌注或氣體(tǐ)控制。

開放訪問： 實驗設計的最大通用(yòng)性，例如，在AFM上同時使用(yòng)微吸管或電(diàn)探針與樣品接觸。

電(diàn)學(xué)測試： 導電(diàn)AFM、KPM、EFM、MFM、STM、壓電(diàn)力顯微鏡、帶溫度控制的電(diàn)化學(xué)和光學(xué)儀器

機械測量： 優化力成像、接觸共振成像、納米操縱、納米光刻和納米壓痕。 涵蓋從單分(fēn)子力譜學(xué)到粘彈性力學(xué)的先進力譜。

完善的光學(xué)集成： NanoWizard AFMs與光學(xué)具(jù)備優異的整合能(néng)力。 由于其獨特的針尖掃描設計，該系統可(kě)以與先進的光學(xué)系統相結合，與标準的聚光鏡和反射顯微鏡同時使用(yòng)，甚至可(kě)以穿過薄的蓋玻片，并在所有(yǒu)主要的倒置光學(xué)顯微鏡上使用(yòng)。

應用(yòng)：

Bruker參考樣品的開爾文(wén)探針顯微鏡圖（KPFM）。 沉積在矽上的金、鋁3D形貌圖，不同顔色的接觸電(diàn)勢差（CPD）數據覆蓋其上。 掃描範圍50 µm ×17µm，高度範圍是86nm，接觸電(diàn)勢差範圍是-120mV到750mV.

旋塗在矽基底上的聚苯乙烯與聚烯烴（乙烯-辛烯共聚物(wù)）共混物(wù)，利用(yòng)力成像模式成像。 掃描範圍5 µm ×5µm，分(fēn)辨率：256×256。 覆蓋于地形圖上的楊氏模量數據（1GPa）

沸石晶體(tǐ)得3D形貌圖。 嵌在熱塑性基底的沸石晶體(tǐ)表面。 表面晶體(tǐ)台階清晰可(kě)見。 樣品由英國(guó)曼切斯特大學(xué)的 Anderson教授提供。

液下吸附在多(duō)價陽離子修飾的雲母表面的DNA分(fēn)子，利用(yòng)PF-Tapping成像，高度範圍3nm。 

 聚苯乙烯-聚丁烯雙段共聚物(wù)的相位成像圖。 掃描範圍：1 µm ×1µm； Z範圍：4 nm。 樣品由開姆尼茨工(gōng)業大學(xué)Margerle教授組Eike-Christian Spitzner提供。        

标準測量模式 

成像模式

帶有(yǒu)橫向力顯微鏡（LFM）的接觸模式

具(jù)有(yǒu)Phase Imaging™的輕敲模式™

力學(xué)測量

靜态和動态力譜

高級力學(xué)成像

可(kě)選模式

 新(xīn)：峰值力輕敲

高次諧波成像

 新(xīn)：接觸共振AFM

導電(diàn)AFM

開爾文(wén)探針顯微鏡

磁力顯微鏡與靜電(diàn)力顯微鏡

掃描隧道顯微鏡

電(diàn)學(xué)譜模式

壓電(diàn)響應顯微鏡

具(jù)有(yǒu)溫度控制和光學(xué)顯微鏡的電(diàn)化學(xué)

納米印刷

納米操作(zuò)

納米壓痕

掃描熱AFM

新(xīn)：來自Cytosurge的FluidFM®解決方案

ExperimentPlanner用(yòng)于設計特定的測量工(gōng)作(zuò)流程

RampDesigner™，用(yòng)于自定義Clamp和Ramp實驗

遠(yuǎn)程實驗控制的ExperimentControl功能(néng)

新(xīn)：DirectOverlay 2用(yòng)于AFM和光學(xué)顯微鏡聯用(yòng)